應(yīng)用遺傳算法建立云杉針葉表面PCDD/ Fs 光解半衰期的預(yù)測(cè)模型
| 論文類(lèi)型 | 基礎(chǔ)研究 | 發(fā)表日期 | 2005-03-01 |
| 來(lái)源 | 環(huán)境科學(xué) 2005年3月 第26卷 第2期 | ||
| 作者 | 牛軍峰,余剛,韓文亞 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 遺傳算法 PCDD/Fs 定量結(jié)構(gòu)2性質(zhì)關(guān)系(QSPR) 量子化學(xué)參數(shù) | ||
| 摘要 | 采用量子化學(xué)PM3 算法計(jì)算PCDD/Fs的量子化學(xué)參數(shù),應(yīng)用遺傳算法( Genetic Algorithm , GA) 對(duì)所建模型中的變量進(jìn)行篩選,建立了能預(yù)測(cè)吸附到云杉[ Picea abies (L.) Karst.]針葉表面的PCDD/ Fs 光解半衰期( t1/2 )的定量結(jié)構(gòu)-性質(zhì)關(guān)系(QSPR) 模型,認(rèn)為影響PCDD/Fs 光解速率的主要因素是分子最高占據(jù)軌道能( EHOMO) 、前線(xiàn)分子軌道能量差( ELUMO-EHOMO) 和平均極化率(α) . | ||
分享
論文搜索
月熱點(diǎn)論文
論文投稿
很多時(shí)候您的文章總是無(wú)緣變成鉛字。研究做到關(guān)鍵時(shí)，試驗(yàn)有了起色時(shí)，是不是想和同行探討一下，工作中有了心得，您是不是很想與人分享，那么不要只是默默工作了，寫(xiě)下來(lái)吧！投稿時(shí)，請(qǐng)以附件形式發(fā)至 paper@h2o-china.com ，請(qǐng)注明論文投稿。一旦采用，我們會(huì)為您增加100枚金幣。
